[发明专利]成膜方法和成膜装置有效

专利信息
申请号: 201110217038.0 申请日: 2011-07-29
公开(公告)号: CN102345111A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 池内俊之;周保华;山本和弥;世良贤太郎 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: C23C16/40 分类号: C23C16/40;C23C16/455;H01L21/31
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种使用成膜装置在被处理体上形成由氧化硅膜构成的薄膜的成膜方法和成膜装置,该成膜装置包括:处理容器;原料气体供给系统,其具有第1开闭阀,能向处理容器内供给原料气体;反应气体供给系统,其具有第2开闭阀,能向处理容器内供给反应气体;真空排气系统,其具有第3开闭阀,能将处理容器内的气氛气体排成而成为真空,其中,吸附工序和反应工序存在间歇期间地交替反复多次,该吸附工序为,关闭第3开闭阀,打开第1开闭阀规定期间,向处理容器供给原料气体之后,将其关闭,保持该状态规定期间,使原料气体吸附于被处理体的表面;该反应工序为,打开第2开闭阀,向处理容器内供给反应气体,使反应气体与原料气体反应而形成薄膜。
搜索关键词: 方法 装置
【主权项】:
一种成膜方法,使用成膜装置在被处理体上形成由氧化硅膜构成的薄膜,该被处理体的表面形成有含有金属的膜,该成膜装置包括:处理容器,其能收容上述被处理体;原料气体供给系统,其具有第1开闭阀,能向上述处理容器内供给原料气体;反应气体供给系统,其具有第2开闭阀,能向上述处理容器内供给反应气体;真空排气系统,其具有第3开闭阀,能将上述处理容器内的气氛排成真空,其特征在于,在吸附工序和反应工序之间存在间歇期间地交替反复多次该吸附工序和反应工序,该吸附工序为,关闭上述真空排气系统的上述第3开闭阀,打开上述原料气体供给系统的上述第1开闭阀第1规定期间,向上述处理容器供给上述原料气体之后,关闭该第1开闭阀,在保持上述第1开闭阀关闭第2规定期间的状态下,使上述处理容器内的上述原料气体吸附于上述被处理体的表面;该反应工序为,打开上述反应气体供给系统的上述第2开闭阀,向上述处理容器内供给上述反应气体,使上述反应气体与上述原料气体发生反应而形成薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110217038.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top