[发明专利]一种n-p-衬底型铟镓氮多层薄膜结构光伏器件及制备无效

专利信息
申请号: 201110204110.6 申请日: 2011-07-21
公开(公告)号: CN102254965A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 薛玉明;王金飞;宋殿友;潘洪刚;朱亚东;尹振超;谭炳尧;狄海荣;周凯;李石亮;辛志军;汪子涵;裴涛;王一;牛伟凯;蓝英杰 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: H01L31/0304 分类号: H01L31/0304;H01L31/06;H01L31/18
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人: 侯力
地址: 300384 天津市南*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种n-p-衬底型铟镓氮多层薄膜结构光伏器件,由衬底、p-InxGa1-xN薄膜和n-InyGa1-yN薄膜依次叠加构成,所述p-InxGa1-xN薄膜中的x为0.3~0.8,n-InyGa1-yN薄膜中的y为0.05~0.3;其制备方法采用MOCVD工艺,首先对衬底表面进行表面等离子体清洗,然后依次沉积p-InxGa1-xN薄膜和n-InyGa1-yN薄膜。本发明的优点是:氮铟镓薄膜提供了对应于太阳光谱几乎完美的匹配带隙,为利用单一半导体材料设计、制备更为高效的多结太阳电池提供了可能,且其吸收系数高,载流子迁移率高,抗辐射能力强;其制备方法工艺简单、易于实施,有利于大规模的推广应用。
搜索关键词: 一种 衬底 型铟镓氮 多层 薄膜 结构 器件 制备
【主权项】:
一种n‑p‑衬底型铟镓氮多层薄膜结构光伏器件,其特征在于:由衬底、p‑InxGa1‑xN薄膜和n‑InyGa1‑yN薄膜依次叠加构成,所述p‑InxGa1‑xN薄膜中的x为0.3~0.8,n‑InyGa1‑yN薄膜中的y为0.05~0.3。
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