[发明专利]一种n-p-衬底型铟镓氮多层薄膜结构光伏器件及制备无效
申请号: | 201110204110.6 | 申请日: | 2011-07-21 |
公开(公告)号: | CN102254965A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 薛玉明;王金飞;宋殿友;潘洪刚;朱亚东;尹振超;谭炳尧;狄海荣;周凯;李石亮;辛志军;汪子涵;裴涛;王一;牛伟凯;蓝英杰 | 申请(专利权)人: | 天津理工大学 |
主分类号: | H01L31/0304 | 分类号: | H01L31/0304;H01L31/06;H01L31/18 |
代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人: | 侯力 |
地址: | 300384 天津市南*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 一种n-p-衬底型铟镓氮多层薄膜结构光伏器件,由衬底、p-InxGa1-xN薄膜和n-InyGa1-yN薄膜依次叠加构成,所述p-InxGa1-xN薄膜中的x为0.3~0.8,n-InyGa1-yN薄膜中的y为0.05~0.3;其制备方法采用MOCVD工艺,首先对衬底表面进行表面等离子体清洗,然后依次沉积p-InxGa1-xN薄膜和n-InyGa1-yN薄膜。本发明的优点是:氮铟镓薄膜提供了对应于太阳光谱几乎完美的匹配带隙,为利用单一半导体材料设计、制备更为高效的多结太阳电池提供了可能,且其吸收系数高,载流子迁移率高,抗辐射能力强;其制备方法工艺简单、易于实施,有利于大规模的推广应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 衬底 型铟镓氮 多层 薄膜 结构 器件 制备 | ||
【主权项】:
一种n‑p‑衬底型铟镓氮多层薄膜结构光伏器件,其特征在于:由衬底、p‑InxGa1‑xN薄膜和n‑InyGa1‑yN薄膜依次叠加构成,所述p‑InxGa1‑xN薄膜中的x为0.3~0.8,n‑InyGa1‑yN薄膜中的y为0.05~0.3。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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