[发明专利]带电粒子束装置以及试样加工方法有效
申请号: | 201110187310.5 | 申请日: | 2011-07-05 |
公开(公告)号: | CN102315066A | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 小川贵志 | 申请(专利权)人: | 精工电子纳米科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/21 | 分类号: | H01J37/21;H01J37/04 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供带电粒子束装置以及试样加工方法,该带电粒子束装置具有:离子源,其产生离子束;第1物镜电极,其形成使离子束聚焦至试样上的第1物镜;第2物镜电极,其被配置在比第1物镜电极更靠近试样的位置处,形成第2物镜,该第2物镜使以低加速电压加速后的离子束聚焦至试样上。 | ||
搜索关键词: | 带电 粒子束 装置 以及 试样 加工 方法 | ||
【主权项】:
一种带电粒子束装置,该带电粒子束装置具有:收纳试样的试样室;以及离子束镜筒,其通过加速电压对离子束进行加速,并使离子束聚焦地照射到该试样上,其中,所述离子束镜筒具有:离子源,其被收纳在所述离子束镜筒的基端侧,产生离子束;以及离子光学系统,其向所述试样照射所述离子束,所述离子光学系统具有:第1物镜电极,其使所述离子束聚焦至所述试样上;以及第2物镜电极,其使以第2加速电压加速后的离子束聚焦至所述试样上,其中,所述第2加速电压比对所述离子束进行加速的第1加速电压低。
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