[发明专利]一种太阳能硅片的清洗方法无效
| 申请号： | 201110181286.4 | 申请日： | 2011-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN102363149A | 公开（公告）日： | 2012-02-29 |
| 发明（设计）人： | 丁海军 | 申请（专利权）人： | 常州天合光能有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;H01L31/18 |
| 代理公司： | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人： | 王凌霄 |
| 地址： | 213031 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于太阳能硅片清洗技术领域，特别是太阳能硅片表面金属离子去除的方法。步骤如下：一、对切割后的硅片用传统的清洗方法进行清洗；二、将清洗后的硅片浸入一定pH值的质量百分含量为0.03％～0.05％的HCN水溶液中，室温下浸泡20～30秒钟；三、将浸泡后的硅片用纯水漂洗后烘干。本发明通过将硅片用HCN水溶液清洗后，使得硅片表面的金属污染物含量从1013原子/cm2降低至109原子/cm2，并且使得电池的转换效率增加了2％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 太阳能 硅片 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种太阳能硅片的清洗方法，其特征是：包括如下步骤：一、对切割后的硅片用传统的清洗方法进行清洗；二、将清洗后的硅片浸入一定pH值的质量百分含量为0.03％～0.05％的HCN水溶液中，室温下浸泡20～30秒钟；三、将浸泡后的硅片用纯水漂洗后烘干。
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