[发明专利]碳化硅网格状电极PIN型核电池有效

专利信息
申请号: 201110181205.0 申请日: 2011-06-30
公开(公告)号: CN102280157A 公开(公告)日: 2011-12-14
发明(设计)人: 郭辉;张玉娟;张玉明;石彦强;项萍 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G21H1/06 分类号: G21H1/06
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;朱红星
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种碳化硅网格状电极PIN型核电池及其制作方法,主要解决现有技术中制作碳化硅PIN结核电池转化效率低的问题。本发明包括放射性同位素源层(1)、SiO2致密绝缘层(2)、SiO2钝化层(3)、p型欧姆接触电极(4)、掺杂浓度为1×1019~5×1019cm-3的p型SiC外延层(5)、掺杂浓度为1×1015~5×1015cm-3的n型SiC外延层(6)、掺杂浓度为1×1018~7×1018cm-3的n型SiC衬底(7)和n型欧姆接触电极(8)。该p型欧姆接触电极(4)由多个相同的正方形网格组成,正方形网格由多个横向矩形条和多个纵向矩形条分割而成,整个网格电极的外围留有多个引脚;同位素源层(1)覆盖在p型欧姆接触电极(4)的表面。本发明能量转换效率高,可作为MEMS片上电源、心脏起搏器电源和手机备用电源。
搜索关键词: 碳化硅 网格 电极 pin 核电
【主权项】:
一种碳化硅网格状电极PIN型核电池,依次包括放射性同位素源层(1)、SiO2钝化层(2)、SiO2致密绝缘层(3)、p型欧姆接触电极(4)、掺杂浓度为1×1019~5×1019cm‑3的p型SiC外延层(5)、掺杂浓度为1×1015~5×1015cm‑3的n型SiC外延层(6)、掺杂浓度为1×1018~7×1018cm‑3的n型SiC衬底样片(7)和n型欧姆接触电极(8),其特征在于p型欧姆接触电极(4)采用g个大小相同的正方形网格结构,g≥4,放射性同位素源层(1)覆盖在该网格接触电极的表面。
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