[发明专利]图像传感器的遮光结构、图像传感器有效
申请号: | 201110170552.3 | 申请日: | 2011-06-22 |
公开(公告)号: | CN102222677A | 公开(公告)日: | 2011-10-19 |
发明(设计)人: | 巨晓华;饶金华;周雪梅;张克云;孔蔚然;吴小利 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种图像传感器的遮光结构、包括所述遮光结构的图像传感器,所述图像传感器包括多个像素单元,所述像素单元包括:衬底,形成于衬底中的光电传感器,覆盖所述衬底上的透光介质层,形成于所述透光介质层中的遮光结构,所述遮光结构包括第一遮光结构和第二遮光结构,所述第一遮光结构和第二遮光结构露出光电传感器,所述第二遮光结构位于第一遮光结构下方且靠近光电传感器的位置,其中,在垂直于衬底的剖面中,第一遮光结构包括第一长边,第一长边与衬底表面平行;所述第二遮光结构包括第二长边,所述第二长边垂直于衬底表面。本发明遮光结构可大大降低图像传感器的噪音。 | ||
搜索关键词: | 图像传感器 遮光 结构 | ||
【主权项】:
一种图像传感器的遮光结构,其特征在于,所述图像传感器包括多个像素单元,所述像素单元包括:衬底,形成于衬底中的光电传感器,覆盖所述衬底上的透光介质层,形成于所述透光介质层中的遮光结构,所述遮光结构包括第一遮光结构和第二遮光结构,所述第一遮光结构和第二遮光结构露出光电传感器,所述第二遮光结构位于第一遮光结构下方且靠近光电传感器的位置,其中,在垂直于衬底的剖面中,第一遮光结构包括第一长边,第一长边与衬底表面平行;所述第二遮光结构包括第二长边,所述第二长边垂直于衬底表面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的