[发明专利]一种物理气相沉积涂层的工艺方法无效
| 申请号： | 201110157952.0 | 申请日： | 2011-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN102230154A | 公开（公告）日： | 2011-11-02 |
| 发明（设计）人： | 吴舢红 | 申请（专利权）人： | 上海巴耳思新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/06 |
| 代理公司： | 上海硕力知识产权代理事务所 31251 | 代理人： | 郭桂峰 |
| 地址： | 201209 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种物理气相沉积涂层的工艺方法，涉及金属加工技术领域。针对现有的物理气相沉积涂层工艺能耗大且处理时间长的问题。本发明的工艺方法如下：a、氮化处理：将基体材料置于反应室内的偏转源上，向真空的反应室内通入氮气和惰性气体，反应时间50～100分钟；b、沉积薄膜：关闭氮气，使反应室降温并向反应室内通入涂层材料等离子气体，并使涂层材料等离子气体轰击经步骤a氮化处理后的基体材料，反应时间50～100分钟。本发明适用于绝大多数刀具模具和部件表面的涂层处理。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 物理 沉积 涂层 工艺 方法 | ||
【主权项】：
一种物理气相沉积涂层的工艺方法，步骤如下：a、对预加工基材表面进行氮化处理：将基体材料置于物理气相沉积设备反应室内的偏转源上，向所述真空反应室内通入氮气和惰性气体，反应时间50～100分钟；b、在所述基材表面形成沉积薄膜：关闭氮气，使所述反应室降温并向所述反应室内通入涂层材料等离子气体，并使所述涂层材料等离子气体轰击经步骤a氮化处理后的基体材料，反应时间50～100分钟；c、得到处理后的基材材料。
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