[发明专利]聚焦反射镜的镀膜方法

摘要

本发明揭示了一种聚焦反射镜的镀膜方法，包括以下步骤：1.将待镀膜的聚焦反射镜均匀地放置于一水平的转台上，选取靶材；2.在镀膜开始前标记位置指示标志处于一初始位置；3.密封真空腔，启动真空获得系统；4.通入反应气体；5.保持磁控溅射靶的挡板关闭，开启溅射电源开始预溅射；6.设置转台的转速，同时开启挡板和启动转台的旋转，此时镀膜计时开始；7.当计时达到镀膜时间，且位置指示标志回归到初始位置时，立即关闭挡板，再关闭溅射电源和停止转台的旋转，即完成聚焦反射镜的镀膜。本发明方法解决了聚焦反射镜上镀膜厚度不均匀的问题。

主权项

一种聚焦反射镜的镀膜方法，其特征在于包括以下步骤：步骤一：将复数个待镀膜的聚焦反射镜均匀地放置于一水平的转台上，所述转台位于一内壁上至少设有一个磁控溅射靶的真空腔中，选取镀膜材料作为靶材；步骤二：在步骤一的所述转台上的标记一个位置指示标志，在镀膜开始前使所述位置指示标志处于一初始位置；步骤三：密封真空腔，启动真空获得系统，真空腔内真空度达到8.0×10‑4Pa以上；步骤四：通入反应气体，使真空腔内的真空度达到0.5Pa～0.01Pa；步骤五：保持磁控溅射靶的挡板关闭，开启溅射电源开始预溅射，设定沉积速率在10埃/秒～50埃/秒；步骤六：设置转台的转速在5转/分钟～20转/分钟，同时开启挡板和启动转台的旋转，此时镀膜计时开始；步骤七：根据镀膜厚度确定镀膜时间，当计时达到镀膜时间，且步骤二所述的位置指示标志回归到初始位置时，立即关闭挡板，再关闭溅射电源和停止转台的旋转，即完成聚焦反射镜的镀膜。