[发明专利]聚焦反射镜的镀膜方法

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜领域，尤其涉及一种用于太阳能光电器件聚焦反射镜的镀膜方法。

背景技术

太阳能光电器件聚焦反射镜2的结构为一球冠状，如图1所示，四周在平面上的投影为正方形，截面为圆弧形，中间为一圆孔101。在其内球面真空镀有一层厚度均匀的高反射膜，而外球面不允许镀膜。常用的镀膜方法是蒸发和磁控溅射镀膜技术，因磁控溅射镀膜具有均匀性好，沉积速度一致性好、可控性强的特点成为最佳选择。但是由于聚焦反射镜的结构和PVD涂层设备的特殊性，每批次不同位置的聚焦反射镜相对于磁控溅射靶的位置不同，因此，单位时间内每个聚焦反射镜及单个聚焦反射镜的不同部位沉积的膜层厚度不同，尤其是TiO2等氧化膜光学性质对厚度非常敏感，导致涂层后工件或其不同部位呈现黄色、红色、蓝色等不均匀现象，由此可知解决膜层厚度均匀性是镀膜工艺的关键点。

发明内容

本发明的目的是提出一种用于太阳能光电器件聚焦反射镜的镀膜方法，解决了膜层厚度均匀性的问题。

本发明的目的将通过以下技术方案得以实现：

一种聚焦反射镜的镀膜方法，包括以下步骤：

步骤一：将复数个待镀膜的聚焦反射镜均匀地放置于一水平的转台上，所述转台位于一内壁上至少设有一个磁控溅射靶的真空腔中，选取镀膜材料作为靶材；

步骤二：在步骤一的所述转台上的标记一个位置指示标志，在镀膜开始前使所述位置指示标志处于一初始位置；

步骤三：密封真空腔，启动真空获得系统，真空腔内真空度达到高于8.0×10^-4Pa；

步骤四：通入反应气体，使真空腔内的真空度达到0.5Pa～0.01Pa；

步骤五：保持磁控溅射靶的挡板关闭，开启溅射电源开始预溅射，设定沉积速率在10埃/秒～50埃/秒；

步骤六：设置转台的转速在5转/分钟～20转/分钟，一方面保证聚焦反射镜运转平稳，另一方面保证在镀膜时间内每个聚焦反射镜经过有效镀膜区域的次数足够多；同时开启挡板和启动转台的旋转，此时镀膜计时开始；

步骤七：根据镀膜厚度确定镀膜时间，当计时达到镀膜时间，且步骤二所述的位置指示标志回归到初始位置时，立即关闭挡板，再关闭溅射电源和停止转台的旋转，即完成聚焦反射镜的镀膜。

优选的，上述的聚焦反射镜的镀膜方法，其中：步骤一中所述聚焦反射镜围成的正多边形的中心与所述转台的圆心重合，保证每个聚焦反射镜的镀膜面和磁控溅射靶的靶材面平行且距离相等。

优选的，上述的聚焦反射镜的镀膜方法，其中：所述磁控溅射靶的靶材为Ti，Si，TiO₂或者SiO₂之中的任一种。

优选的，上述的聚焦反射镜的镀膜方法，其中：步骤四中所述反应气体为氩气和氧气，且所述氩气和氧气的比例为0.3∶1～1∶1，确保能够生成稳定的氧化物，并且这种氧化物的折射率适当，能够和其他膜层一起完成高反射功能。

本发明方法利用磁控溅射镀膜技术，沉积过程易于控制，镀膜效率高，可以在聚焦反射镜上镀出符合镀膜工艺要求的、膜厚度均匀的高反射膜。本发明根据位置指示标志确定初始位置，每次镀膜时以位置指示标志在该初始位置为开始，又重新回归该初始位置为截止，作为一个镀膜周期，目的是让每个聚焦反射镜经过工作的磁控溅射靶的次数或时间相等，保证每批次每个位置的聚焦反射镜的镀膜厚度都一样，消除由于初始位置不同造成的不同聚焦反射镜或同一聚焦反射镜不同部位的膜厚度不均的问题。

以下便结合实施例附图，对本发明的具体实施方式作进一步的详述，以使本发明技术方案更易于理解、掌握。

附图说明

图1是聚焦反射镜的结构示意图；

图2是本发明实施例1的结构示意图。

具体实施方式

实施例1

本实施例的一种聚焦反射镜的镀膜方法，如图2所示，包括以下步骤：

步骤一：将四个待镀膜的聚焦反射镜1均匀地放置于一水平的转台2上，转台2位于一内壁上设有一个磁控溅射靶3的真空腔4中，聚焦反射镜1围成的正多边形的中心与转台2的圆心重合，保证每个聚焦反射镜1的镀膜面和磁控溅射靶3的靶材面平行且距离相等；选取Ti或者TiO₂镀膜材料作为靶材；

步骤二：在步骤一的转台2上的标记一个位置指示标志5，在镀膜开始前使所述位置指示标志5处于一初始位置；

步骤三：密封真空腔4，启动真空获得系统，真空腔4内真空度达到高于8.0×10^-4Pa；