[发明专利]石墨烯碳纳米管复合膜结构的制备方法有效
| 申请号： | 201110140264.3 | 申请日： | 2011-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN102796991A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 姜开利;林晓阳;肖林;范守善 | 申请（专利权）人： | 清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种石墨烯碳纳米管复合膜结构的制备方法，其包括以下步骤：提供一金属基底具有一第一表面，以及一与所述第一表面相对的第二表面；提供一自支撑的碳纳米管膜结构覆盖所述石墨烯膜并与所述石墨烯膜复合；至少部分去除所述金属基底，获得一石墨烯碳纳米管复合膜结构。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨 纳米 复合 膜结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种石墨烯碳纳米管复合膜结构的制备方法，包括以下步骤：提供一金属基底，该金属基底具有一第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面；采用化学气相沉积法在所述金属基底的第一表面生长石墨烯膜；提供一自支撑的碳纳米管膜结构覆盖所述石墨烯膜并与所述石墨烯膜复合;以及去除至少部分所述金属基底，获得一石墨烯碳纳米管复合膜结构。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
