[发明专利]光记录介质及其制造方法无效
| 申请号： | 201110134953.3 | 申请日： | 2011-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN102262884A | 公开（公告）日： | 2011-11-30 |
| 发明（设计）人： | 田畑浩;藤井洋辅;和田丰 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G11B7/243 | 分类号： | G11B7/243;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 吴孟秋;梁韬 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光记录介质及其制造方法。该光记录介质包括：无机记录层；以及保护层，包括含有氧化铟的复合氧化物，设置在无机记录层的至少一个表面上，其中，复合氧化物由化学式[(In2O3)1-X(A)X]表示，其中，A是氧化铈或氧化镓，并且X满足0.15≤X≤0.75的范围。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光记录介质，包括：无机记录层；以及保护层，包括含有氧化铟的复合氧化物，并且设置在所述无机记录层的至少一个表面上，其中，所述复合氧化物由化学式[(In2O3)1‑X(A)X]表示，其中，A是氧化铈或氧化镓，并且X满足0.15≤X≤0.75的范围。
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