[发明专利]用于在基板上连续沉积薄膜层的系统的密封配置有效
| 申请号： | 201110112892.0 | 申请日： | 2011-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN102234763A | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | R·W·布莱克;S·D·费尔德曼-皮博迪;M·J·帕沃尔;M·W·里德 | 申请（专利权）人： | 初星太阳能公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/56;H01L31/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 周心志;谭祐祥 |
| 地址： | 美国科*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本申请涉及用于在基板上连续沉积薄膜层的系统的密封配置。提供用于将升华源材料气相沉积为离散光伏模块基板上的薄膜的设备(60)和相关操作方法，基板以连续不停方式输送经过设备。该设备包括配置成接纳源材料且使之升华的沉积头(62)。沉积头具有分配板(88)，其处于经过该设备内的沉积区(112)输送的基板的上表面的水平输送平面(117)上方限定距离处。升华源材料移动经过分配板且在基板输送经过沉积区时沉积到基板上表面上。基板通过由横向延伸的入口和出口密封(96)限定的入口槽(120)和出口槽(122)移动进出沉积区。该密封安置于基板上表面上方的间隙距离(113)处，该距离小于在基板的上表面与分配板之间的距离或间距。该密封具有约10∶1至约100∶1的纵向长度与间隙距离之间的比例。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基板上 连续 沉积 薄膜 系统 密封 配置 | ||
【主权项】：
一种用于将升华的源材料气相沉积为在离散的光伏(PV)模块基板(14)上的薄膜的设备(60)，所述光伏模块基板(14)以连续不停方式输送经过所述设备，所述设备包括：沉积头(62)，其被配置成用于接纳源材料且使所述源材料升华；所述沉积头还包括分配板(88)，所述分配板(88)在经过所述设备的沉积区(112)输送的基板的上表面的水平输送平面(117)上方的限定距离处，所述升华的源材料移动经过所述分配板且沉积到经过所述沉积区输送的所述基板的上表面上；以及横向延伸的入口密封和出口密封(96)，所述密封限定用于经过所述设备输送的基板的入口槽(120)和出口槽(122)，所述密封中的至少一个安置于所述基板的上表面上方的间隙距离(113)处，所述间隙距离(113)小于在所述基板的上表面与所述分配板之间的距离，且具有从大约10∶1至大约100∶1的纵向长度与间隙距离的比例。
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