[发明专利]基板制造方法、坯体制造方法、再生光掩模及其制造方法

摘要

本发明涉及基板制造方法、坯体制造方法、再生光掩模及其制造方法，它们利用了在透明基板的第1主表面上形成有膜图案的已经使用过的光掩模，具有以下工序：从第1主表面上去除膜图案的工序；以及对第1主表面和第2主表面分别进行研磨的研磨工序。在研磨工序中，进行如下研磨量的研磨：该研磨量使得在第1主表面和第2主表面中的转印区域外，不残留300μm以上的大小的损伤缺陷，且残留2μm以上且小于300μm的大小的损伤缺陷，并且使得在第2主表面中的转印区域内，不残留100μm以上的大小的损伤缺陷。

主权项

一种再生光掩模用基板的制造方法，其利用了在透明基板的第1主表面上形成有包含转印用图案的膜图案的已经使用过的光掩模，该制造方法的特征在于，具有以下工序：去除所述膜图案的工序；以及对所述第1主表面和所述透明基板的第2主表面分别进行研磨的研磨工序，在所述研磨工序中，进行如下研磨量的研磨：该研磨量使得在所述再生光掩模的转印区域外，在所述第1主表面和所述第2主表面上，不残留300μm以上的大小的损伤缺陷，且残留2μm以上且小于300μm的大小的损伤缺陷，并且该研磨量使得在所述再生光掩模的转印区域内，在所述第2主表面上，不残留100μm以上的大小的损伤缺陷。