[发明专利]涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备有效
| 申请号： | 201110086003.8 | 申请日： | 2008-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN102156390A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | B·斯蒂夫克尔克;R·F·德格拉夫;J·C·H·马尔肯斯;M·贝克尔斯;P·P·J·伯克文斯;D·L·安斯陶特兹 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备，并且公开了一种浸没光刻设备的流体限制系统的操作方法。流体限制系统的性能通过几种不同的方法测量。基于性能的测量结果，产生一个例如指示需要实施修复措施的信号。 | ||
| 搜索关键词： | 涉及 浸没 光刻 技术 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种检测光刻设备的流体处理系统的污染物的方法，所述方法包括：使所述流体处理系统(12)的多孔构件(21)与流体在第一侧接触；从多孔构件(21)的第二侧以恒定速率移除流体，该第二侧与所述第一侧相对；以及通过监测以恒定速率移除的所述流体的压力来检测污染物。
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