[发明专利]非球面测量装置无效

专利信息
申请号: 201110083017.4 申请日: 2011-03-31
公开(公告)号: CN102235853A 公开(公告)日: 2011-11-09
发明(设计)人: 富水政昭;葛宗涛;岩崎裕行 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 刘晓峰
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 公开了一种非球面测量装置,包括样品保持机构和干涉光学机构,并在旋转样品的同时在每次测量角度改变时进行光学干涉测量。样品保持机构具有用于围绕测试表面轴线旋转样品的第一气动轴和第一气动滑动装置。第一气动滑动装置正交于或平行于测试表面轴线载送样品。干涉光学机构具有干涉光学系统、第一成像系统、第二成像系统、第二气动轴和第二气动滑动装置。第二气动轴整体地旋转或转动干涉光学系统以及第一和第二成像系统,以改变测量光轴和测试表面轴线之间的测量角度。第二气动滑动装置正交于第一气动滑动装置的移动方向载送第二气动轴。
搜索关键词: 球面 测量 装置
【主权项】:
一种非球面测量装置,包括样品保持装置和干涉光学装置,样品保持装置保持具有非球面测试表面的样品,干涉光学装置具有干涉光学单元,干涉光学单元用于将测量光束发射至非球面测试表面并获得由从非球面测试表面反射的测量光束和参考光束的干涉引起的干涉条纹,以进行光学干涉测量,非球面测量装置基于干涉条纹测量非球面测试表面的形状,该非球面测量装置包括:样品保持装置,包括:样品旋转机构,用于围绕测试表面轴线旋转样品;第一滑动机构,用于支撑样品旋转机构,并正交于或平行于测试表面轴线直线移动样品旋转机构;干涉光学装置,包括:光学单元旋转机构,用于支撑并旋转干涉光学单元,以改变干涉光学单元的测量光轴和测试表面轴线之间的测量角度;第二滑动机构,用于支撑光学单元旋转机构,并正交于第一滑动机构的移动方向直线移动光学单元旋转机构;和控制器,用于控制样品旋转机构、第一滑动机构、光学单元旋转机构和第二滑动机构,其中在样品旋转时且每当在控制器的控制下顺序改变测量角度时进行光学干涉测量。
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