[发明专利]非球面测量装置无效
| 申请号: | 201110083017.4 | 申请日: | 2011-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN102235853A | 公开(公告)日: | 2011-11-09 |
| 发明(设计)人: | 富水政昭;葛宗涛;岩崎裕行 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘晓峰 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 球面 测量 装置 | ||
1.一种非球面测量装置,包括样品保持装置和干涉光学装置,样品保持装置保持具有非球面测试表面的样品,干涉光学装置具有干涉光学单元,干涉光学单元用于将测量光束发射至非球面测试表面并获得由从非球面测试表面反射的测量光束和参考光束的干涉引起的干涉条纹,以进行光学干涉测量,非球面测量装置基于干涉条纹测量非球面测试表面的形状,该非球面测量装置包括:
样品保持装置,包括:
样品旋转机构,用于围绕测试表面轴线旋转样品;
第一滑动机构,用于支撑样品旋转机构,并正交于或平行于测试表面轴线直线移动样品旋转机构;
干涉光学装置,包括:
光学单元旋转机构,用于支撑并旋转干涉光学单元,以改变干涉光学单元的测量光轴和测试表面轴线之间的测量角度;
第二滑动机构,用于支撑光学单元旋转机构,并正交于第一滑动机构的移动方向直线移动光学单元旋转机构;和
控制器,用于控制样品旋转机构、第一滑动机构、光学单元旋转机构和第二滑动机构,其中在样品旋转时且每当在控制器的控制下顺序改变测量角度时进行光学干涉测量。
2.根据权利要求1所述的非球面测量装置,其中样品保持装置和干涉光学装置设置在壳体中,以防止非球面测试表面附近的温度和湿度的突变。
3.根据权利要求1所述的非球面测量装置,其中第一和第二滑动机构中的每一个都由气动滑动装置构成。
4.根据权利要求1所述的非球面测量装置,其中样品旋转机构和光学单元旋转机构中的每一个都由气动轴构成。
5.根据权利要求1所述的非球面测量装置,其中具有干涉光学单元的光学单元旋转机构安装在干涉光学装置的基座部的中间,并且基座部的一端部由第二滑动机构的滑板支撑,且另一端部采用充气套滑动地保持在工作台之上。
6.根据权利要求1所述的非球面测量装置,其中给样品保持装置和干涉光学装置中的至少一个提供上下机构,所述上下机构用于调节测试表面轴线和测量光轴沿上下方向的位置。
7.根据权利要求1所述的非球面测量装置,其中干涉光学单元设置有第一成像部和第二成像部,第一成像部用于采用一维图像传感器对干涉条纹进行成像,第二成像部用于采用二维图像传感器对干涉条纹进行成像。
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