[发明专利]一种钼氧基三阶非线性光学材料及其合成方法无效
申请号: | 201110073295.1 | 申请日: | 2011-03-25 |
公开(公告)号: | CN102193266A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 周云山;莫志健;叶宁;张立娟;韩瑞雪 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学;仪征市森泰化工有限公司 |
主分类号: | G02F1/355 | 分类号: | G02F1/355 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 李海燕 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种钼氧基三阶非线性光学材料及其合成方法,属于功能材料领域。分子式为(NH4)42[{(MoVI)MoVI5O21(H2O)6}12{MoV2O4}30(CH3COO)5(HOOC(CH2)2COO)25]·≈100H2O。本发明通过按照物质的量比例为1~3∶40~80将丁二酸铵加入到{Mo132Ac}水溶液中,搅拌并用HCl酸化,静置使溶液结晶得到上述新型材料。本发明所提供的有机-无机杂化三阶非线性光学材料没有明显的非线性吸收,具有较大非线性折射系数,具有自散焦性能。在常温下非常稳定,合成方法简单。 | ||
搜索关键词: | 一种 钼氧基三阶 非线性 光学材料 及其 合成 方法 | ||
【主权项】:
一种钼氧基三阶非线性光学材料,其分子式为(NH4)42[{(MoVI)MoVI5O21(H2O)6}12{MoV2O4}30(CH3COO)5(HOOC(CH2)2COO)25]·≈100H2O。
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