[发明专利]膜厚量测装置及其校正方法有效

专利信息
申请号: 201110053410.9 申请日: 2011-03-04
公开(公告)号: CN102141698A 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: 柯智胜;贺成明 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G01B21/08
代理公司: 广东国晖律师事务所 44266 代理人: 欧阳启明
地址: 518057 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种膜厚量测装置及其校正方法。所述膜厚量测装置包含至少两位于不同校正位置的固定座、一用于承载基材的承载机台,以及一量测头。所述量测头从承载机台接收当前所承载基材的标识;并从保存的对应关系中获取该标识对应的校正位置的参数,并移动到获取的参数所对应的校正位置上方,进而量测位于该校正位置的固定座上的校正片的膜厚实现校正。本发明针对不同基材而自动切换到对应的校正位置进行校正,可避免手动更换校正片的不便。
搜索关键词: 膜厚量测 装置 及其 校正 方法
【主权项】:
一种膜厚量测装置,其特征在于,包括:至少两个固定座,分别位于不同的校正位置,用于承载不同的校正片;一承载机台,位于所述固定座的一侧,用于承载一待量测的基材,并且储存当前承载的基材的标识;以及一量测头,位于所述固定座与所述承载机台上方,并从承载机台接收所述基材的标识,并从保存的对应关系中获取该标识对应的校正位置的参数,所述对应关系为标识与校正位置的参数的对应关系,并移动到获取的参数所对应的校正位置上方,量测位于该校正位置的固定座上的校正片的膜厚以实现校正。
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