[发明专利]光刻设备和用于校正光刻设备的台的位置的方法有效
| 申请号： | 201110048628.5 | 申请日： | 2011-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN102163003A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;E·J·M·尤森;W·H·G·A·考恩;E·A·F·范德帕斯卡;H·K·范德斯考特;M·W·M·范德维基斯特;M·M·P·A·沃梅尤恩;C·A·L·德霍恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和一种用于校正光刻设备的台的位置的方法。所述光刻设备包括：用以保持物体的台，所述台在运动范围内相对于参照结构是可移动的；磁体结构，用以在所述运动范围的至少一部分内提供空间变化的磁场，所述磁体结构相对于参照结构和所述台是可移动的；第一位置测量系统，用以提供第一测量信号，所述第一测量信号对应于所述台和/或所述物体在测量方向上相对于参照结构的位置；第二位置测量系统，用以提供第二测量信号，所述第二测量信号对应于台相对于磁体结构的位置；和数据处理器，用依赖于第二测量信号的值校正第一测量信号，以提供表示所述台和/或所述物体相对于参照结构在测量方向上的位置的校正的第一测量信号。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 用于 校正 位置 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：台，配置用以保持物体，所述台在运动范围内相对于参照结构是可移动的；磁体结构，配置用以在所述运动范围的至少一部分内提供空间变化的磁场，所述磁体结构相对于参照结构和所述台是可移动的；第一位置测量系统，配置用以提供第一测量信号，所述第一测量信号对应于所述台、或所述物体、或台和物体两者在测量方向上相对于所述参照结构的位置；第二位置测量系统，配置用以提供第二测量信号，所述第二测量信号对应于所述台相对于所述磁体结构的位置；和数据处理器，配置成用依赖于第二测量信号的值校正第一测量信号，以提供表示所述台、或所述物体、或所述台和所述物体两者相对于参照结构在测量方向上的位置的校正的第一测量信号。
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