[发明专利]光刻设备和用于校正光刻设备的台的位置的方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

台，配置用以保持物体，所述台在运动范围内相对于参照结构是可移动的；

磁体结构，配置用以在所述运动范围的至少一部分内提供空间变化的磁场，所述磁体结构相对于参照结构和所述台是可移动的；

第一位置测量系统，配置用以提供第一测量信号，所述第一测量信号对应于所述台、或所述物体、或台和物体两者在测量方向上相对于所述参照结构的位置；

第二位置测量系统，配置用以提供第二测量信号，所述第二测量信号对应于所述台相对于所述磁体结构的位置；和

数据处理器，配置成用依赖于第二测量信号的值校正第一测量信号，以提供表示所述台、或所述物体、或所述台和所述物体两者相对于参照结构在测量方向上的位置的校正的第一测量信号。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述磁体结构包括配置用以提供空间变化的磁场的永磁体。

3.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述第一位置测量系统包括格栅和与所述格栅协同操作的传感器头，其中所述格栅设置在参照结构和台中的一个上，并且其中所述传感器头设置在参照结构和台中的另一个上。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，其中，所述格栅设置在参照结构上，并且传感器头设置在所述台上。

5.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述第二位置测量系统包括传感器，所述传感器的输出提供第二测量信号。

6.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述第二位置测量系统包括两个传感器和处理器，传感器中的一个的输出表示台相对于测量参照物的位置，并且传感器中的另一个的输出表示磁体结构相对于测量参照物的位置，并且其中所述处理器配置成结合两个传感器的输出以提供第二测量信号。

7.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述参照结构是支撑所述台和所述磁体结构的基部。

8.根据权利要求1所述的光刻设备，包括：

支撑结构，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；

衬底台，构造成保持衬底；和

投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，

其中所述台包括衬底台。

9.根据权利要求1所述的光刻设备，包括：

支撑结构，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；

衬底台，构造成保持衬底；和

投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，

其中所述台包括用以保持图案形成装置的支撑结构。

10.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述台由基部直接地或间接地支撑，所述磁体结构相对于所述基部是可移动的，并且其中致动系统设置在所述台和磁体结构之间以移动所述台。

11.根据权利要求10所述的光刻设备，包括另一台，其中在另一台和磁体结构之间设置另一致动系统以移动所述另一台。

12.根据权利要求11所述的光刻设备，包括第三测量系统，所述第三测量系统配置成测量所述另一台相对于参照结构在测量方向上的位置，其中所述第二位置测量系统包括配置成测量所述另一台相对于磁体结构的位置的传感器，并且其中所述第二位置测量系统配置成从第一测量信号得到第二测量信号、以及得到第三测量信号的输出和第二测量信号的传感器的输出。

13.一种用于校正台、或由台保持的物体、或所述台和所述物体两者相对于参照结构在测量方向上的位置测量值的方法，其中所述台在空间变化的磁场中是可移动的，所述磁场相对于所述台和所述参照结构又是可移动的，所述方法包括步骤：

提供第一测量信号，所述第一测量信号对应于所述台、或所述物体、或所述台和所述物体两者相对于参照结构在测量方向上的位置；

提供第二测量信号，所述第二测量信号对应于所述台相对于磁场的位置；和

用依赖于第二测量信号的值校正第一测量信号，以提供表示所述台、或所述物体、或所述台和所述物体两者相对于参照结构在测量方向上的位置的校正的第一测量信号。