[发明专利]锑辅助生长的砷化铟/砷化镓量子点太阳电池的制作方法无效

专利信息
申请号: 201110044608.0 申请日: 2011-02-16
公开(公告)号: CN102176490A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 杨晓光;杨涛 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种锑辅助生长的砷化铟/砷化镓量子点太阳电池的制作方法,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:在衬底上依次生长n+型GaAs层和本征GaAs缓冲层;步骤3:在本征GaAs缓冲层上沉积一锑层;步骤4:在锑层上依次生长多个周期的量子点结构、本征GaAs层、p型GaAs层、p+型GaAs层、p+型Al0.8Ga0.2As层和p+型GaAs层;步骤5:在p+型GaAs层上蒸发上金属电极;步骤6:刻蚀上金属电极,使上金属电极形成网状;步骤7:在网状上金属电极上及裸露的p+型GaAs层上生长减反层;步骤8:剥离减反层,使上金属电极裸露;步骤9:在衬底的下表面制作下金属电极,形成电池组件;步骤10:对电池组件进行封装,完成太阳电池的制作。
搜索关键词: 辅助 生长 砷化铟 砷化镓 量子 太阳电池 制作方法
【主权项】:
一种锑辅助生长的砷化铟/砷化镓量子点太阳电池的制作方法,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:在衬底上依次生长n+型GaAs层和本征GaAs缓冲层;步骤3:在本征GaAs缓冲层上沉积一锑层;步骤4:在锑层上依次生长多个周期的量子点结构、本征GaAs层、p型GaAs层、p+型GaAs层、p+型Al0.8Ga0.2As层和p+型GaAs层;步骤5:在p+型GaAs层上蒸发上金属电极;步骤6:刻蚀上金属电极,使上金属电极形成网状;步骤7:在网状上金属电极上及裸露的p+型GaAs层上生长减反层;步骤8:剥离掉覆盖在上金属电极表面的减反层,使上金属电极裸露;步骤9:在衬底的下表面制作下金属电极,形成电池组件;步骤10:对电池组件进行封装,完成太阳电池的制作。
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