[发明专利]微细结构的光刻方法有效
| 申请号： | 201110006476.2 | 申请日： | 2011-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN102591139A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 王红丽;闫江 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/20;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙) 11345 | 代理人： | 陈红 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种微细结构的光刻方法，包括：在衬底上形成结构材料层和第一硬掩模材料层；进行第一光刻，形成第一硬掩模图形；在第一硬掩模图形上形成第二硬掩模材料层；进行第二光刻，形成第二硬掩模图形。其中。第一光刻和第二光刻的光源不同，选自i线水银弧光灯和电子束曝光系统两者之一。依照本发明的微细结构的光刻方法，将传统光学光刻技术和电子束光刻技术结合起来使用，利用电子束曝光来实现微细图形的制作，利用光学光刻来完成其他图形，这样可以既有效解决微细图形的制作问题，又不损失效率。 | ||
| 搜索关键词： | 微细 结构 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻方法，包括：在衬底上形成结构材料层和第一硬掩模材料层；进行第一曝光和第一刻蚀，形成第一硬掩模图形；在所述第一硬掩模图形上形成第二硬掩模材料层；进行第二曝光和第二刻蚀，形成第二硬掩模图形。
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