[发明专利]压电薄膜器件及其制造方法以及压电薄膜装置有效

专利信息
申请号: 201080065779.5 申请日: 2010-12-21
公开(公告)号: CN102823007A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 末永和史;柴田宪治;佐藤秀树;野本明 申请(专利权)人: 日立电线株式会社
主分类号: H01L41/18 分类号: H01L41/18;C23C14/34;H01L41/08;H01L41/22;H03H9/17
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种压电薄膜器件,其特征在于,其为在基板上至少配置有下部电极、用通式(NaxKyLiz)NbO3(0≤x≤1、0≤y≤1、0≤z≤0.2、x+y+z=1)表示的压电薄膜、以及上部电极的压电薄膜层叠体,所述压电薄膜具有准立方晶、正方晶或正交晶的晶体结构,或者为这些所述晶体结构中的至少一种共存的状态,在它们的晶轴中2轴以下的某些特定轴优先取向,并且作为所述取向的晶轴的成分,在(001)成分和(111)成分的比率中,以这两者的总计为100%时,(001)成分的体积分数在60%以上且100%以下的范围内,(111)成分的体积分数在0%以上且40%以下的范围内。
搜索关键词: 压电 薄膜 器件 及其 制造 方法 以及 装置
【主权项】:
一种压电薄膜器件,其为在基板上至少配置有下部电极、用通式(NaxKyLiz)NbO3表示的压电薄膜、以及上部电极的压电薄膜层叠体,其中,0≤x≤1、0≤y≤1、0≤z≤0.2、x+y+z=1,所述压电薄膜具有准立方晶、正方晶或正交晶的晶体结构,或者为这些所述晶体结构中的至少一种共存的状态,在它们的晶轴中2轴以下的某些特定轴优先取向,并且作为所述取向的晶轴的成分,在(001)成分和(111)成分的比率中,以这两者的总计为100%时,(001)成分的体积分数在60%以上且100%以下的范围内,(111)成分的体积分数在40%以下的范围内。
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