[发明专利]用于电子功率组件、光电组件或者光伏组件的异质结构有效
申请号: | 201080054245.2 | 申请日: | 2010-12-01 |
公开(公告)号: | CN102640257A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | J-M·贝斯奥谢;法布里斯·勒泰特;C·维克霍恩;约努茨·拉杜;O·考诺恩楚克 | 申请(专利权)人: | 索泰克公司 |
主分类号: | H01L21/18 | 分类号: | H01L21/18;H01L21/762;H01L23/373;H01L21/02 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 吕俊刚;刘久亮 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: |
本发明涉及一种用于电子功率组件、光电组件或者光伏组件的制造的异质结构(1),其包括:电阻率小于10-3ohm.cm并且热导率大于100W.m-1.K-1的支撑基板(10)、接合层(2)、AlxInyGa(1-x-y)N的单晶晶种层(3)、具有3至100微米的厚度的AlxInyGa(1-x-y)N的无裂纹的单晶有源层(4),其中:晶种层和接合层之间的比接触电阻小于或等于0.1ohm.cm2,支撑基板、接合层和晶种层的材料在大于750℃的温度是难熔的,并且晶种层的晶格参数与有源层的晶格参数的差小于0.005 |
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搜索关键词: | 用于 电子 功率 组件 光电 或者 结构 | ||
【主权项】:
1.一种用于电子功率组件、光电组件或者光伏组件的制造的异质结构(1),所述异质结构从其底部到其表面连续地包括:·支撑基板(10),所述支撑基板的材料具有小于10-3ohm.cm的电阻率和大于100W.m-1.K-1的热导率,·接合层(2),·单晶晶种层(3),所述单晶晶种层的材料的组成式为AlxInyGa(1-x-y)N,其中0≤x≤1,0≤y≤1并且x+y≤1,·单晶层(4),即所谓的“有源层”,所述单晶层的材料的组成式为AlxInyGa(1-x-y)N,其中0≤x≤1,0≤y≤1并且x+y≤1,所述异质结构的特征在于:·所述有源层(4)是具有3至100微米的厚度的无裂纹的层,·所述晶种层(3)和所述接合层(2)之间的比接触电阻小于或等于0.1ohm.cm2,并且·所述支撑基板(10)、所述接合层(2)和所述晶种层(3)的材料在大于750℃的温度是难熔的,优选地在大于1000℃的温度是难熔的,并且·所述晶种层(3)的晶格参数与所述有源层(4)的材料的晶格参数的差小于![]()
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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