[发明专利]光学系统、特别是微光刻投射曝光设备中的光学系统有效
| 申请号： | 201080053976.5 | 申请日： | 2010-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN102648402A | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | A.霍夫;D.纽格鲍尔;R.弗赖曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G01M11/00 | 分类号： | G01M11/00;G03F7/20;G01B9/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明关于一种光学系统，尤其是在微光刻投射曝光设备中的系统，其包含第一光学组件（110，210，910）、第二光学组件（120，220，920）、以及用于确定第一光学组件和第二光学组件在六个自由度上的相对位置的测量布置，其中测量布置用于确定第一光学组件及第二光学组件在六个不同长度测量区段（131-136;231-236）的相对位置，其中所述长度测量区段（131-136;231-236）直接延伸于第一光学组件（110，210，910）及第二光学组件之间（120，220，920）。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 特别是 微光 投射 曝光 设备 中的 | ||
【主权项】：
一种光学系统，尤其是在微光刻投射曝光设备中的光学系统，包含：第一光学组件（110，210，910）；第二光学组件（120，220，920）；以及测量布置，用于确定所述第一光学组件及所述第二光学组件在六个自由度的相对位置；其中所述测量布置用于确定所述第一光学组件及所述第二光学组件在六个不同长度测量区段（131‑136；231‑236；931‑936）上的相对位置，其中所述长度测量区段（131‑136；231‑236；931‑936）直接延伸于所述第一光学组件（110，210，910）及所述第二光学组件（120，220，920）之间。
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