[发明专利]增强集成度的投射透镜组件有效

专利信息
申请号: 201080053362.7 申请日: 2010-10-08
公开(公告)号: CN102648509A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: J·J·科宁;S·W·H·斯藤布林克;B·施普尔 申请(专利权)人: 迈普尔平版印刷IP有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01J37/12
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 马景辉
地址: 荷兰代*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及用于将大量带电粒子小射束引导至位于下游方向上的图像平面上的投射透镜组件模块和用于组装这种投射透镜组件的方法。具体地讲,本发明公开了结构集成度增强和/或最下游电极的安置精度增大的模块化投射透镜组件。
搜索关键词: 增强 集成度 投射 透镜 组件
【主权项】:
一种用于将大量带电粒子小射束引导至图像平面的投射透镜组件,所述投射透镜组件包括用于会聚大量带电粒子小射束中的一个或多个带电粒子小射束的第一电极和第二电极、包括用于允许所述大量带电粒子小射束通过的通孔的外壳,所述第一和第二电极均包括用于使得所述大量带电粒子小射束中的一个或多个带电粒子小射束通过的、与所述通孔对齐的透镜孔阵列,其特征在于:所述外壳包括周围壁并且具有上游远边和下游远边,以及所述投射透镜组件还包括:至少一个支撑元件,包括用于使得大量带电粒子小射束通过的通孔,其中,所述至少一个支撑元件附连到外壳,以及其中,第一电极和第二电极由所述至少一个支撑元件进行支撑,其中,第一和第二电极布置在由外壳的下游远边限定的平面内或附近。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于迈普尔平版印刷IP有限公司,未经迈普尔平版印刷IP有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080053362.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top