[发明专利]中和还原剂及脱污方法无效
| 申请号： | 201080044880.2 | 申请日： | 2010-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN102550137A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 西条义司;山本久光;内海雅之 | 申请（专利权）人： | 上村工业株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/42 | 分类号： | H05K3/42;C09K3/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的中和还原剂，其是在对被镀物用氧化剂进行脱污处理后，对吸附残留在被镀物上的氧化剂成分进行中和还原的中和还原剂，本发明的中和还原剂含有硫代酰胺化合物及非芳香族硫醇化合物。按照本发明，由于中和还原处理时不产生气体，故通孔或盲孔表面不产生中和还原不良的现象。另外，由于几乎不溶解铜，可以抑制白圈的发生，不发生由中和还原剂引起的内层铜和树脂间的刻蚀造成的局部隆起。 | ||
| 搜索关键词： | 中和 还原剂 方法 | ||
【主权项】：
一种中和还原剂，其用于在对被镀物用氧化剂进行脱污处理后，对吸附残留在被镀物上的氧化剂成分进行中和还原，其特征在于，含有硫代酰胺化合物及非芳香族硫醇化合物。
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