[发明专利]表面波等离子体CVD设备以及成膜方法

摘要

一种表面波等离子体CVD设备，其包括：波导(3)，该波导(3)连接于微波源(2)，多个槽缝天线(S)形成于波导的磁场平面上；电介质板(4)，该电介质板(4)用于将从多个槽缝天线(S)射出的微波引导至等离子体处理室(1)，从而产生表面波等离子体；绝缘遮蔽构件(1b)，该绝缘遮蔽构件(1b)配置成包围产生表面波等离子体的成膜处理区域(R)；以及气体喷射部(52)，该气体喷射部(52)将处理材料气体喷射至成膜处理区域(R)。

主权项

一种表面波等离子体CVD设备，其包括：波导，所述波导连接于微波源，多个槽缝天线形成于所述波导的磁场平面上；电介质板，所述电介质板用于将从所述多个槽缝天线发射的微波引导到等离子体处理室中，从而产生表面波等离子体；绝缘遮蔽构件，所述绝缘遮蔽构件配置成包围产生所述表面波等离子体的成膜处理区域；以及气体喷射部，所述气体喷射部将处理材料气体喷射到所述成膜处理区域中。