[发明专利]用于压印光刻的乙烯基醚抗蚀剂制剂的稳定剂有效
| 申请号： | 201080037134.0 | 申请日： | 2010-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN102597874A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 古川泰一;S·A·斯万索恩;F·A·豪尔 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司;JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴亦华 |
| 地址： | 美国纽*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了适用于紫外压印光刻应用的涂料组合物，其包含：至少一种乙烯基醚交联剂，其具有至少两个乙烯基醚基团；至少一种稀释剂，其包括单官能乙烯基醚化合物；至少一种光酸产生剂，其可溶于选定的该至少一种单官能乙烯基醚化合物及该至少一种具有至少两个乙烯基醚基团的乙烯基醚交联剂之一或两者中；以及至少一种稳定剂，其包括在酯基位或α位及酯基位上被取代基选择性取代的酯化合物。本发明还公开了压印方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 压印 光刻 乙烯基 醚抗蚀剂 制剂 稳定剂 | ||
【主权项】：
一种涂料组合物，其包含：至少一种乙烯基醚交联剂，其具有至少两个乙烯基醚基团；至少一种稀释剂，其包括单官能乙烯基醚化合物；至少一种光酸产生剂，其可溶于选定的i)该单官能乙烯基醚化合物及ii)该至少一种乙烯基醚交联剂之一或两者；及至少一种稳定剂，其包括在i)酯位或ii)α位及酯位被取代基选择性取代的酯化合物。
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