[发明专利]用于压印光刻的乙烯基醚抗蚀剂制剂的稳定剂有效

专利信息
申请号: 201080037134.0 申请日: 2010-07-23
公开(公告)号: CN102597874A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 古川泰一;S·A·斯万索恩;F·A·豪尔 申请(专利权)人: 国际商业机器公司;JSR株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/027
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 吴亦华
地址: 美国纽*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 压印 光刻 乙烯基 醚抗蚀剂 制剂 稳定剂
【权利要求书】:

1.一种涂料组合物,其包含:

至少一种乙烯基醚交联剂,其具有至少两个乙烯基醚基团;

至少一种稀释剂,其包括单官能乙烯基醚化合物;

至少一种光酸产生剂,其可溶于选定的i)该单官能乙烯基醚化合物及ii)该至少一种乙烯基醚交联剂之一或两者;及

至少一种稳定剂,其包括在i)酯位或ii)α位及酯位被取代基选择性取代的酯化合物。

2.如权利要求1的涂料组合物,其中该α位的该取代基为脂族或芳族的取代基。

3.如权利要求1的涂料组合物,其中该酯位的取代基为脂族或芳族的取代基。

4.如权利要求1的涂料组合物,其中该α位的取代基选自由以下各基团所组成的组:甲基、苄基、蒽基及萘基。

5.如权利要求1的涂料组合物,其中该酯位的取代基选自由以下各基团所组成的组:甲基、异丙基及叔丁基。

6.如权利要求1的涂料组合物,其中该至少一种稳定剂小于该光酸产生剂的15重量%。

7.如权利要求1的涂料组合物,其中该至少一种稳定剂为该乙烯基醚交联剂与稀释剂成份的总重量的0.1至5重量%。

8.如权利要求1的涂料组合物,其中该至少一种稳定剂为该乙烯基醚交联剂与稀释剂成份的总重量的0.2至3重量%。

9.如权利要求1的涂料组合物,其中该至少一种稳定剂具有下式:

其中R1为烃基取代基,该烃基取代基选自由以下各基团所组成的组:直链烷基、支链烷基、环烷基、双环烷基、氟化直链烷基、氟化支链烷基、氟化环烷基、芳基、芳烷基、烷芳基、烯基、环烯基、二氢吡喃基、二氢呋喃基、烷烯基、烯烷基、炔基、烷炔基、炔烷基、三氟甲基、三氟乙基、三氟丙基、氰基丙基、三-三烷基硅烷基、三-三芳基硅烷基、三-三烷芳基硅烷基、三-三芳烷基硅烷基、三-三烯基硅烷基、三-三氟烷基、三-三炔基硅烷基、三-三氟甲基硅烷基、三-三氟乙基硅烷基、三-三氟丙基硅烷基及三-氰基丙基硅烷基;并且R2选自由烃基取代基所组成的组,该烃基取代基选自由以下各基团所组成的组:直链烷基、直链烷氧基、直链烷氧基羰甲基、支链烷基、支链烷氧基、支链烷氧基羰甲基、环烷基、环烷氧基、双环烷氧基、氟化直链烷基、氟化支链烷基、氟化环烷基、芳基、芳烷基、烷芳基、烯基、环烯基、二氢吡喃基、二氢呋喃基、烷烯基、烯烷基、炔基、烷炔基、炔烷基、三氟甲基、三氟乙基、三氟丙基、氰基丙基、三-三烷基硅烷基、三-三芳基硅烷基、三-三烷芳基硅烷基、三-三芳烷基硅烷基、三-三烯基硅烷基、三-三氟烷基、三-三炔基硅烷基、三-三氟甲基硅烷基、三-三氟乙基硅烷基、三-三氟丙基硅烷基及三-氰基丙基硅烷基。

10.如权利要求1的涂料组合物,其中该至少一种稳定剂选自由以下所组成的组:蒽甲酸甲酯、蒽甲酸异丙酯、蒽甲酸丁酯、蒽甲酸异丙氧基羰甲酯、蒽甲酸甲氧基羰甲酯、蒽甲酸叔丁氧基羰甲酯、乙酸乙酯、乙酸异丙酯、乙酸叔丁酯、苯甲酸甲酯、苯甲酸异丙酯、苯甲酸叔丁酯及其组合。

11.如权利要求1的涂料组合物,其中该光酸产生剂为非离子型的。

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