[发明专利]沉积适用于将电线粘结在印刷电路板导体上的钯层的方法及所述方法中使用的钯浴无效
申请号: | 201080027555.5 | 申请日: | 2010-11-06 |
公开(公告)号: | CN102482780A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | J·艾伯;E·马卡;W·马舒特;S·奥尔舒兰格 | 申请(专利权)人: | 多杜科有限公司 |
主分类号: | C23C18/54 | 分类号: | C23C18/54 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 谭志强 |
地址: | 德国普福*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明公开了一种用于生成可与金导线粘接的表面的方法。所述表面通过以下步骤获得:首先在印刷电路板的导体(尤其是由铜或导电糊制成的导体上)沉积由本发明的电解质制成的交换钯层。然后,所述交换钯层用由化学钯电解质沉积的钯层加强。为了保护钯,接着涂覆交换金层。根据本发明,所使用的交换钯浴中包含有机光亮剂。 | ||
搜索关键词: | 沉积 适用于 电线 粘结 印刷 电路板 导体 方法 使用 | ||
【主权项】:
一种用于沉积钯层的方法,通过从钯交换浴中沉积出钯,该钯层适用于粘接在印刷电路板的导体尤其是由铜制成的导体上,其特征在于:使用包含有机光亮剂的钯交换浴。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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