[发明专利]光学元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201080026768.6 申请日: 2010-06-17
公开(公告)号: CN102460236A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 屋铺一寻;泽村力;梅崎浩司;久保章 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;B42D15/10;G02B5/32
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 劉鳳嶺;陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够稳定地且以高的位置精度形成反射层的光学技术。本发明的光学元件包含起伏结构形成层、第1层和第2层,所述第1层由折射率与所述起伏结构形成层的材料不同的第1材料构成,所述第2层由与所述第1材料不同的第2材料构成,并覆盖所述第1层,所述第2区域的位置上的所述第2材料的量与所述第2区域的表观上的面积之比为零,或者和所述第2子区域的位置上的所述第2材料的量与所述第2子区域的表观上的面积之比相比更小。
搜索关键词: 光学 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种光学元件,其具备以下各层:起伏结构形成层,该层具有包含相互邻接的第1区域及第2区域的主面,所述第1区域包含第1子区域及第2子区域,所述第1子区域与所述第2区域邻接,且沿着所述第1区域及第2区域间的边界延伸,所述第2子区域在中间夹着所述第1子区域而与所述第2区域邻接,所述第2区域设有多个凹部或凸部,而且与所述第1区域相比,表面积与表观上的面积之比更大;第1层,该层由折射率与所述起伏结构形成层的材料不同的第1材料构成,至少覆盖所述第2子区域,与所述第2子区域对应的部分具有与所述第2子区域的表面形状对应的表面形状,所述第2区域的位置上的所述第1材料的量与所述第2区域的表观上的面积之比为零,或者和所述第2子区域的位置上的所述第1材料的量与所述第2子区域的表观上的面积之比相比更小;以及第2层,该层由与所述第1材料不同的第2材料构成,覆盖所述第1层,所述第2区域的位置上的所述第2材料的量与所述第2区域的表观上的面积之比为零,或者和所述第2子区域的位置上的所述第2材料的量与所述第2子区域的表观上的面积之比相比更小。
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