[发明专利]蒸镀处理装置和蒸镀处理方法无效
| 申请号： | 201080017943.5 | 申请日： | 2010-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN102414339A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 小野裕司;江面知彦;林辉幸;田村明威;齐藤美佐子;桑田拓岳;大槻志门 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能使保持了高流动性的状态的颗粒状的有机材料有效地升华、溶解的蒸镀处理装置和蒸镀处理方法。是通过蒸镀在基板上使薄膜成膜的蒸镀处理装置，具备供给材料气体的、自由减压的材料供给装置和在上述基板上使薄膜成膜的成膜装置，所述材料供给装置具有对材料进行定量的定量部和使通过了所述定量部的材料气化的材料气体生成部。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种蒸镀处理装置，其通过蒸镀使薄膜成膜于基板，该蒸镀处理装置的特征在于，包括：供给材料气体的自由减压的材料供给装置；和使薄膜成膜于所述基板的成膜装置，其中，所述材料供给装置具有对材料进行定量的定量部；和使通过了所述定量部的材料气化的材料气体生成部。
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