[发明专利]在医学程序中跟踪和绘图的方法和系统无效

专利信息
申请号: 201080007268.8 申请日: 2010-01-18
公开(公告)号: CN102316799A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: R·曼茨克;R·陈 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055;A61B19/00;G01R33/26
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种用于患者的靶标解剖体的跟踪系统可包括:医学装置,其具有整体连接于其上并能定位在靶标解剖体内的磁源(299);多个光学原子磁力计(OAM)传感器(210),其用于探测来自磁源的磁场;以及处理器(120),其用于基于与所探测磁场相关联的一个或多个参数确定医学装置的位置。其他实施例可以包括连接磁源与医学装置并且使得OAM传感器可定位在靶标解剖体附近。
搜索关键词: 医学 程序 跟踪 绘图 方法 系统
【主权项】:
一种在医学程序中进行跟踪的方法,所述方法包括:提供医学装置(198),其具有整体连接于所述医学装置上的至少一个光学原子磁力计(OAM)传感器(199);将所述医学装置定位在患者的靶标解剖体(105)内;将磁场(145)施加到所述靶标解剖体;利用所述OAM传感器探测所述磁场;以及基于与所探测的磁场相关联的一个或多个参数确定所述医学装置的位置。
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