[实用新型]一种具有降低反射声影响的阵元结构无效

专利信息
申请号: 201020598848.6 申请日: 2010-11-05
公开(公告)号: CN201877118U 公开(公告)日: 2011-06-22
发明(设计)人: 杨亦春;滕鹏晓 申请(专利权)人: 中国科学院声学研究所
主分类号: G10L21/02 分类号: G10L21/02
代理公司: 北京法思腾知识产权代理有限公司 11318 代理人: 杨小蓉;高宇
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及一种具有降低反射声影响的阵元结构,包括:位于同一平面上的中央平台和若干条均匀设置在中央平台周围的呈螺旋形分布的刚性辐条(2),其特征在于,每条刚性辐条(2)的宽度为9mm~12mm,每条刚性辐条(2)上有若干个阵元安装孔(1),所述的若干阵元安装孔(1)分布在阵列平面的均匀间隔的n×n井字形线条的交叉节点附近,n取15或21的整数倍;n×n的井字形线的实际间距设定为80~100mm,阵元安装基座高度(6)为4mm~6mm。本实用新型结构简单,采用螺旋式结构,减少由于阵元结构和阵元高度反射回声对实际测量声场的不良影响,有利于提高探测定位精度。
搜索关键词: 一种 具有 降低 反射 影响 结构
【主权项】:
一种具有降低反射声影响的阵元结构,所述的具有降低反射声影响的阵元结构包括:位于同一平面上的中央平台和若干条均匀设置在中央平台周围的呈螺旋形分布的刚性辐条(2),其特征在于,每条刚性辐条(2)的宽度为9mm~12mm,所述的每条刚性辐条(2)上有若干个阵元安装孔(1),所述的若干阵元安装孔(1)分布在阵列平面的均匀间隔的n×n井字形线条的交叉节点附近,n取15或21的整数倍;n×n的井字形线的实际间距设定为80~100mm,阵元安装基座(6)高度为4mm~6mm。
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