[实用新型]一种适应于DMC数码摄影测量的布点系统有效

专利信息
申请号: 201020535456.5 申请日: 2010-09-17
公开(公告)号: CN201837389U 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: 苗小利;刘敏;张增场;张文安 申请(专利权)人: 中煤地航测遥感局有限公司;西安煤航信息产业有限公司
主分类号: G01C11/00 分类号: G01C11/00;G01C25/00
代理公司: 西安创知专利事务所 61213 代理人: 谭文琰
地址: 710054*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型公开了一种适应于DMC数码摄影测量的布点系统,包括用于输入像控布点方案设计之相关参数的参数设置单元、根据所输入的相关参数计算得出视差量测单位权中误差mq的单位权中误差计算模块、根据所计算出的视差量测单位权中误差mq且结合参数设置单元所输入的相关参数对满足平面精度和高程精度的相邻像控点间的基线数分别进行计算并相应得出像控布点方案的像控布点系统以及与像控布点系统相接的显示器。本实用新型设计新颖合理、实现方便且使用效果好、实用价值高,通过对不同的像机型号的视差量测单位权中误差mq进行修正,有效解决了目前DMC数码摄影测量依据现有规范布设像控点无法满足测量精度要求的实际问题。
搜索关键词: 一种 适应 dmc 数码 摄影 测量 布点 系统
【主权项】:
一种适应于DMC数码摄影测量的布点系统,其特征在于:包括用于输入像控布点方案设计之相关参数的参数设置单元(1)、根据所输入的相关参数计算得出视差量测单位权中误差mq的单位权中误差计算模块(3)、根据所计算出的视差量测单位权中误差mq且结合参数设置单元(1)所输入的相关参数对满足平面精度和高程精度的相邻像控点间的基线数分别进行计算并相应得出像控布点方案的像控布点系统(2)以及与像控布点系统(2)相接的显示器(4),所述参数设置单元(1)与像控布点系统(2)相接,所述像控布点系统(2)与单位权中误差计算模块(3)相接。
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