[实用新型]一种单深结密栅线结构太阳电池无效

专利信息
申请号: 201020512914.3 申请日: 2010-08-31
公开(公告)号: CN201796899U 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 闻震利;窦永铭;张辉 申请(专利权)人: 厦门索纳新能源有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 连耀忠
地址: 361000 福建省厦*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型公开了一种单深结密栅线结构太阳电池,该太阳电池由银栅线电极、减反射膜、N型重掺杂深发射极N++、P型晶体硅和铝背场构成;铝背场设在P型晶体硅的背面;多个银栅线电极均匀分布在P型晶体硅的正面,且相邻的银栅线电极之间的间距为0.1~1mm;在对应于银栅线电极下方的P型晶体硅中设有以液态源磷扩散方式制成的N型重掺杂深发射极N++,该N型重掺杂深发射极N++的结深为0.5~2μm;减反射膜覆盖在除银栅线电极之外的P型晶体硅的正面中。本实用新型是将N型低掺杂浅发射极N+去除,并通过调整N型重掺杂深发射极N++的结深尺寸和银电极栅线间的距离尺寸,形成了单深结密栅线结构,不但减少了工艺、制造流程,降低了生产成本,而且还提高了太阳电池的效率。
搜索关键词: 一种 单深结密栅线 结构 太阳电池
【主权项】:
一种单深结密栅线结构太阳电池,其特征在于:由银栅线电极、减反射膜、N型重掺杂深发射极N++、P型晶体硅和铝背场构成;铝背场设在P型晶体硅的背面;多个银栅线电极均匀分布在P型晶体硅的正面,且相邻的银栅线电极之间的间距为0.1~1mm;在对应于银栅线电极下方的P型晶体硅中设有以液态源磷扩散方式制成的N型重掺杂深发射极N++,该N型重掺杂深发射极N++的结深为0.5~2μm;减反射膜覆盖在除银栅线电极之外的P型晶体硅的正面中。
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