[实用新型]晶体硅材料的深冷处理装置有效
| 申请号： | 201020293127.4 | 申请日： | 2010-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN201764768U | 公开（公告）日： | 2011-03-16 |
| 发明（设计）人： | 王士元 | 申请（专利权）人： | 英利能源(中国)有限公司 |
| 主分类号： | F25D3/10 | 分类号： | F25D3/10;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 071051 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种晶体硅材料的深冷处理装置，包括：工件仓；设置于工件仓外部的液氮仓；与液氮仓相连的非接触式循环泵；与工件仓相连的真空度表和温度传感器。本实用新型通过工件仓外部的液氮仓，保证了工件仓可以实现在低温下工作；通过与工件仓相连的真空度表和温度传感器，能够监测深冷处理过程中工件仓中的温度和真空度，保证了深冷处理能够正常运行；并且，通过与液氮仓相连的非接触式循环泵，使液氮仓中的液氮能够循环使用，无需向空气中排放液氮，从而降低了能源的消耗并保护了环境，成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 晶体 材料 冷处理 装置 | ||
【主权项】：
一种晶体硅材料的深冷处理装置，其特征在于，包括：工件仓；设置于工件仓外部的液氮仓；与液氮仓相连的非接触式循环泵；与工件仓相连的真空度表和温度传感器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英利能源(中国)有限公司，未经英利能源(中国)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201020293127.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种带网络电视功能的电视系统
- 下一篇：多功能手机转接装置
