[实用新型]晶体硅材料的深冷处理装置有效
| 申请号： | 201020293127.4 | 申请日： | 2010-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN201764768U | 公开（公告）日： | 2011-03-16 |
| 发明（设计）人： | 王士元 | 申请（专利权）人： | 英利能源(中国)有限公司 |
| 主分类号： | F25D3/10 | 分类号： | F25D3/10;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 071051 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 晶体 材料 冷处理 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种晶体硅材料的深冷处理装置，其特征在于，包括：
工件仓；
设置于工件仓外部的液氮仓；
与液氮仓相连的非接触式循环泵；
与工件仓相连的真空度表和温度传感器。
2.根据权利要求1所述的深冷处理装置，其特征在于，还包括：设置于所述液氮仓下方的支架。
3.根据权利要求1所述的深冷处理装置，其特征在于，还包括：与液氮仓相连的液氮压力表。
4.根据权利要求1所述的深冷处理装置，其特征在于，所述工件仓为长方体。
5.根据权利要求1所述的深冷处理装置，其特征在于，所述液氮仓为长方体。
6.根据权利要求1所述的深冷处理装置，其特征在于，所述温度传感器为一个。
7.根据权利要求1所述的深冷处理装置，其特征在于，所述真空度表为一个。
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