[实用新型]晶体硅材料的深冷处理装置有效

专利信息
申请号: 201020293127.4 申请日: 2010-08-13
公开(公告)号: CN201764768U 公开(公告)日: 2011-03-16
发明(设计)人: 王士元 申请(专利权)人: 英利能源(中国)有限公司
主分类号: F25D3/10 分类号: F25D3/10;H01L31/18
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 逯长明
地址: 071051 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 晶体 材料 冷处理 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及深冷处理技术领域,更具体地说,涉及一种晶体硅材料的深冷处理装置。

背景技术

随着常规能源的有限性及环保压力的增加,诸多国家掀起了开发和利用新能源的热潮,其中,太阳能作为一种可再生清洁能源在全球范围内得到快速的发展,因此光伏组件得到了大范围应用。随着光伏组件的大规模生产,光伏组件也暴露出一些缺点,作为如光伏组件的转换效率低等,世界各国光伏技术人员纷纷投入大批技术力量对此进行研究改进。目前,作为光伏电池的制备原料,晶体硅材料的硬度和耐磨性较差,使用寿命较短,同时,奥氏体的高脆性造成加工后的晶体硅材料的易碎裂,使太阳能电池片的抗隐裂性较差和表面硬度较低。

目前,深冷处理技术在工业生产中得到了广泛的应用。将晶体硅材料进行深冷处理,可以改善晶体硅材料的性能。现有技术中,晶体硅材料的深冷处理装置以液氮为冷源,通过不断向深冷处理装置的工件仓中通入液氮,达到深冷处理的目的。但是,该深冷处理装置对液氮消耗较大,造成了能源浪费。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型要解决的技术问题在于提供一种晶体硅材料的深冷处理装置,利用本实用新型提供的深冷处理装置进行深冷处理,液氮消耗量小,节约能源。

本实用新型提供一种晶体硅材料的深冷处理装置,包括:

工件仓;

设置于工件仓外部的液氮仓;

与液氮仓相连的非接触式循环泵;

与工件仓相连的真空度表和温度传感器。

优选的,还包括:

设置于所述液氮仓下方的支架。

优选的,还包括:

与液氮仓相连的液氮压力表。

优选的,所述工件仓为长方体。

优选的,所述液氮仓为长方体。

优选的,所述温度传感器为一个。

优选的,所述真空度表为一个。

从上述的技术方案可以看出,本实用新型提供一种晶体硅材料的深冷处理装置,包括:工件仓;设置于工件仓外部的液氮仓;与液氮仓相连的非接触式循环泵;与工件仓相连的真空度表和温度传感器。本实用新型通过工件仓外部的液氮仓,保证了工件仓可以实现在低温下工作;通过与工件仓相连的真空度表和温度传感器,能够监测深冷处理过程中工件仓中的温度和真空度,保证了深冷处理能够正常运行;并且,通过与液氮仓相连的非接触式循环泵,使液氮仓中的液氮能够循环使用,无需向空气中排放液氮,从而降低了能源的消耗并保护了环境,成本低。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例公开的晶体硅材料的深冷处理装置示意图。

具体实施方式

下面对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型提供一种晶体硅材料的深冷处理装置,如图1所示,包括:工件仓1、液氮仓2、非接触式循环泵3、真空度表4、温度传感器5、液氮压力表6和支架7。

工件仓1可以为长方体,还可以为正方体或其他形状,能够达到存在工件的作用即可。在工件仓1的外部设置有液氮仓2,液氮仓2中的液氮能够达到低温的效果,从而使工件仓中的工件实现深冷处理的目的。对于液氮仓2德形状并无特别限制,可以为长方体、正方体或其他形状,能够达到存放液氮并与工件仓充分接触的目的即可。

在液氮仓2的外部设置有非接触式循环泵3,通过非接触式循环泵3使液氮仓中的液氮能够循环使用,无需向空气中排放液氮,从而降低了能源的消耗并保护了环境,降低深冷处理的成本。

按照本实用新型,还包括与工件仓1相连的真空度表4。通过真空度表4能够检测工件仓中的真空度,保证工件在要求的真空度下进行工作。对于真空度表4的个数并无特别限制,可以为一个或多个。温度传感器5与工件仓1相连,能够实时检测工件仓的内部温度,当温度传感器5检测到工件仓的温度不是工作温度时,可以通过调节液氮仓2中的液氮的量,达到控制温度的目的。对于温度传感器5的个数并无特别限制,可以为一个或多个。

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