[实用新型]一种用于大尺寸基板镀膜的气体分配装置无效
| 申请号： | 201020237298.5 | 申请日： | 2010-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN201770773U | 公开（公告）日： | 2011-03-23 |
| 发明（设计）人： | 彭寿;王友乐;甘治平;王东;金良茂;陈凯;张家林;石丽芬 | 申请（专利权）人： | 蚌埠玻璃工业设计研究院;中国建材国际工程集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 233010 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于大尺寸基板镀膜的气体分配装置，其特征在于：包括一个主进气管(3)，主进气管(3)的两端通过相应的气体通道(3a、3b)分别与一个气体分配管(4、5)的一端连接，两个气体分配管分别与Y形汇合通道(6)的两对称型腔相连接形成两上端封闭结构，在Y形汇合通道(6)内部的每个气体分配管壁上设有一组通气孔(4a、5a)与Y形汇合通道的下端型腔相通。本实用新型的有益效果是两根气体分配管从同一进气管的不同端引入气体，在气体分配上可起到互补的作用，气体分配管上优化的线性分布通气孔，保证了单根气体分配管在基板宽度方向上气体的均匀分配，使气体经过通气孔出来之后形成Y形汇合，保证了镀膜前驱物成分的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 尺寸 镀膜 气体 分配 装置 | ||
【主权项】：
一种用于大尺寸基板镀膜的气体分配装置，其特征在于：包括一个主进气管(3)，主进气管(3)的两端通过相应的气体通道(3a、3b)分别与一个气体分配管(4、5)的一端连接，两个气体分配管分别与Y形汇合通道(6)的两对称型腔相连接形成两上端封闭结构，在Y形汇合通道(6)内部的每个气体分配管壁上设有一组通气孔(4a、5a)与Y形汇合通道的下端型腔相通。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
