[实用新型]用于半导体器件生产环境评估的取样装置有效
| 申请号： | 201020201086.1 | 申请日： | 2010-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN201732021U | 公开（公告）日： | 2011-02-02 |
| 发明（设计）人： | 刘克斌;谢渊;方明海;吴静銮;张士仁 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/22 | 分类号： | G01N1/22 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于半导体器件生产环境评估的取样装置，包括：腔室，其具有开口和用于盖住所述开口的封盖，所述腔室用于放置待进入所述半导体器件生产环境的样品，所述样品释放多种污染气体；进气管和出气管，分别设置于所述腔室的两侧，所述进气管通入高纯度气体到所述腔室中，所述出气管取样所述腔室中的气体混合物；进气阀，设置于所述进气管中，用于控制所述高纯度气体的通入量；出气阀，设置于所述出气管中，用于控制所述气体混合物的取样量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体器件 生产 环境 评估 取样 装置 | ||
【主权项】：
一种用于半导体器件生产环境评估的取样装置，其特征在于，包括：腔室，其具有开口和用于盖住所述开口的封盖，所述腔室用于放置待进入所述半导体器件生产环境的样品，所述样品释放多种污染气体；进气管和出气管，分别设置于所述腔室的两侧，所述进气管通入高纯度气体到所述腔室中，所述出气管取样所述腔室中的气体混合物；进气阀，设置于所述进气管中，用于控制所述高纯度气体的通入量；出气阀，设置于所述出气管中，用于控制所述气体混合物的取样量。
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