[发明专利]一种含有机酸性物质的化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201010591179.4 | 申请日： | 2010-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN102559057A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 徐春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区龙*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于3D封装的TSV硅抛光的、含有机酸性物质的化学机械抛光液，包括研磨颗粒、有机酸性物质，还可以包括pH调节剂、表面活性剂、稳定剂、抑制剂、杀菌剂等，所述有机酸性物质为在与强碱介质混合过程中发生放热反应的有机酸性物质，如柠檬酸、柠檬酸氢胺、柠檬酸氢二铵、乙二胺四乙酸、唑类化合物中的一种或几种的混合。使用本发明抛光液能够大幅提高硅抛光速率，提高产率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 有机 酸性 物质 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种含有机酸性物质的化学机械抛光液，其特征在于，包括：研磨颗粒和速率提升剂；所述速率提升剂为与强碱介质混合过程中发生反应放热的有机酸性物质。
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