[发明专利]无掩膜光刻装置无效
| 申请号： | 201010573808.0 | 申请日： | 2010-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102478767A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 谢常青;潘一鸣;朱效立;刘明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/207 | 分类号： | G03F7/207;G02B5/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 宋焰琴 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种无掩膜光刻装置。该无掩膜光刻装置包括：聚焦衍射光学元件，用于将预设的光刻图形转移至衬底；第一莫尔光栅组，位于聚焦衍射光学元件所在的平面上，包括至少两个莫尔光栅，用于利用至少两个莫尔光栅产生的莫尔条纹的移动来调节聚焦衍射光学元件与衬底的距离。本发明的无掩模光刻装置将用于调焦的莫尔光栅组与该聚焦衍射光学元件集成在一起，具有调焦精度高、结构简单，成本低的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 无掩膜 光刻 装置 | ||
【主权项】：
一种无掩膜光刻装置，其特征在于，包括：聚焦衍射光学元件，用于将预设的光刻图形转移至衬底；第一莫尔光栅组，位于所述聚焦衍射光学元件所在的平面上，包括至少两个莫尔光栅，用于利用所述至少两个莫尔光栅产生的莫尔条纹的移动来调节所述聚焦衍射光学元件与所述衬底的距离。
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