[发明专利]一种利用磁控溅射技术制备的抗菌聚碳酸酯薄膜无效
| 申请号： | 201010569578.0 | 申请日： | 2010-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN102011095A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 罗伟;任月璋 | 申请（专利权）人： | 苏州奥美材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/20 | 分类号： | C23C14/20;C23C14/35 |
| 代理公司： | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人： | 赵枫 |
| 地址： | 215011 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种利用磁控溅射技术制备的抗菌聚碳酸酯薄膜：在室温条件下，以纯度为99.99％的银为靶材，将0.5mm厚度的聚碳酸酯薄膜基材固定于样品架上，采用基材在上、靶材在下的结构，再利用磁控溅射技术由下向上的溅射方式制备纳米银薄膜层，溅射过程中，采用纯度为99.99％氩气为工作气体，靶材与基材的距离为185mm，本底真空度为5×10-4Pa，薄膜厚度通过膜厚度仪来测量控制，在制作过程中，样品架以85r/min的转速旋转。本发明利用磁控溅射技术，在聚碳酸酯片材表面沉积纳米结构银薄膜，实现聚碳酸酯片材的抗菌功能化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 磁控溅射 技术 制备 抗菌 聚碳酸酯 薄膜 | ||
【主权项】：
一种利用磁控溅射技术制备的抗菌聚碳酸酯薄膜，其特征是：在室温条件下，以纯度为99.99％的银为靶材，将0.5mm厚度的聚碳酸酯薄膜基材固定于样品架上，采用基材在上、靶材在下的结构，再利用磁控溅射技术由下向上的溅射方式制备纳米银薄膜层，溅射过程中，采用纯度为99.99％氩气为工作气体，靶材与基材的距离为185mm，本底真空度为5×10‑4Pa，薄膜厚度通过膜厚度仪来测量控制。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州奥美材料科技有限公司，未经苏州奥美材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010569578.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
