[发明专利]一种化学机械研磨装置有效
| 申请号： | 201010567640.2 | 申请日： | 2010-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102476349A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 唐强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/27 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械研磨装置，包括研磨机构、承载机构和与承载机构相连的旋转机构。所述旋转机构包括驱动器，所述承载机构至少包括旋转轴承，所述旋转轴承为磁悬浮轴承。本发明主要利用磁悬浮轴承作为研磨垫轴承，通过磁悬浮力将研磨垫悬浮于所述磁悬浮轴承之上，使其与磁悬浮轴承之间没有机械接触。本发明旨在将所述磁悬浮轴承技术应用于半导体工艺行业来代替现有的机械轴承，从而改进了使用机械轴承时带来的缺陷，例如，机械摩擦损耗、能量损耗、油污、噪音等问题。通过本发明所述的磁悬浮轴承除上述优点外，寿命比机械轴承更长，在很大程度上减少了由于轴承问题造成晶圆报废所带来的损失。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械 研磨 装置 | ||
【主权项】：
一种化学机械研磨装置，包括：研磨机构、承载机构和旋转机构；所述旋转机构包括：旋转轴，所述旋转轴与承载机构连接，旋转轴上具有旋转轴承，所述旋转轴承位于承载机构的承载台内且其中一个表面与承载台承载面在同一平面内，其特征在于，所述旋转轴承为磁悬浮轴承。
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