[发明专利]光学器件的制备方法有效
| 申请号： | 201010565702.6 | 申请日： | 2010-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN102081172A | 公开（公告）日： | 2011-06-01 |
| 发明（设计）人： | 寺西康治;福井慎次;坂野溪帅 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B5/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 以低成本制备包括低折射率膜的光学器件。为了实现该目的，在包括将低折射率膜和高折射率膜交替层叠的多层膜的光学器件的制备方法中，通过使用靶单元的溅射沉积系统在基材上形成多孔膜。将该多孔膜浸入液体中以降低该膜的折射率。通过以简单的步骤形成折射率比以往使用的膜低的低折射率膜，能够以低成本得到高质量光学器件。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 器件 制备 方法 | ||
【主权项】：
光学器件的制备方法，该光学器件在其表面具有薄膜，该方法包括：在基材上形成多孔薄膜；和对该多孔薄膜进行浸液处理。
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