[发明专利]光学器件的制备方法有效
| 申请号： | 201010565702.6 | 申请日： | 2010-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN102081172A | 公开（公告）日： | 2011-06-01 |
| 发明（设计）人： | 寺西康治;福井慎次;坂野溪帅 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B5/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 器件 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.光学器件的制备方法，该光学器件在其表面具有薄膜，该方法包括：
在基材上形成多孔薄膜；和
对该多孔薄膜进行浸液处理。
2.根据权利要求1的方法，其中该薄膜包含MgF2。
3.根据权利要求1的方法，其中通过将该多孔薄膜浸入加热的液体中来进行该浸液处理。
4.根据权利要求1的方法，其中该多孔薄膜具有0.77以下的填充率。
5.根据权利要求1的方法，其中该浸液处理使用水和浓硫酸中的一种。
6.通过权利要求1的方法制备的光学器件。
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