[发明专利]发光二极管制造方法无效

专利信息
申请号: 201010539600.7 申请日: 2010-11-11
公开(公告)号: CN102468374A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 张超雄;张洁玲 申请(专利权)人: 展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/48;H01L33/60
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种发光二极管制造方法,包括步骤:提供上下表面分别形成第一金属层及第二金属层的基板,第一金属层及第二金属层均通过沟槽分割为多个独立的区域,基板开设贯穿第一金属层及第二金属层的多个通孔,并在各通孔内壁面形成连接第一金属层及第二金属层的金属连接层;在各通孔内填充绝缘材料;在各绝缘材料表面形成金属强化层;提供多个发光芯片,将各发光芯片电连接至相邻的第一金属层;在金属强化层上形成覆盖发光芯片的连续的封装体;沿通孔切割基板而形成多个独立的发光二极管。此制造方法可提升产品的良率。
搜索关键词: 发光二极管 制造 方法
【主权项】:
一种发光二极管制造方法,包括步骤:提供上下表面分别形成第一金属层及第二金属层的基板,第一金属层及第二金属层均通过沟槽分割为多个独立的区域,基板开设贯穿第一金属层及第二金属层的多个通孔,并在各通孔内壁面形成连接第一金属层及第二金属层的金属连接层;在各通孔内分别填充绝缘材料;在各绝缘材料表面形成金属强化层;提供多个发光芯片,将各发光芯片电连接至相邻的二第一金属层;在金属强化层上形成覆盖发光芯片的连续的封装体;沿通孔切割基板而形成多个独立的发光二极管。
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