[发明专利]等离子体反应器的工件除吸附设备以及使用该设备使工件除吸附的方法

摘要

本发明提供了在工件除吸附过程中，干燥清洗反应室内部和ESC(静电吸盘)表面的等离子体反应器的工件除吸附设备及使用该设备进行工件除吸附的方法。所述的工件除吸附设备包括一个上升单元，一个ICP源功率单元和一个控制器。所述的上升单元将安装在ESC上表面上的工件进行提升。所述的ICP源功率单元在电感线圈中产生一个磁场，其中电感线圈是设置在一个绝缘窗口的外面。所述的控制器发出一个源功率控制信号，一个升降控制信号和一个除吸附信号。

主权项

一种等离子体反应器的工件除吸附设备，其特征在于该设备包括：一个上升单元，当其接收到一个上升控制信号后，开始提升装在ESC(静电吸盘)上表面的工件，并在工件被提升后支撑工件，使工件底面中部和ESC上表面中部之间形成的空隙与工件底面边缘部分和ESC上表面边缘部分之间形成的空隙保持同样的状态；一个ICP(电感耦合等离子体)源功率单元，其包括一个电感线圈和一个RF(射频)电源单元，所述的电感线圈设置在一个绝缘窗口的外面，而该绝缘窗口是安装在反应室的顶端，其中的反应室设有ESC，当电感线圈被供给一个RF电源时会形成一个磁场，而RF电源单元是接收到一个源功率控制信号后才向电感线圈提供上述RF电源的；和一个控制器，其用于控制操作设有反应室的等离子体反应器，并确保工件的除吸附，它发出源功率控制信号、上升控制信号和除吸附控制信号，并在工件的除吸附过程中，控制一种通入到反应室中的除吸附气体的质量流量，同时控制反应室中的压力，其中，由于向反应室中通入了除吸附气体，并且电感线圈产生了磁场，因此反应室中会产生抗静电的清洗等离子体，吸附电源单元在接收到除吸附控制信号后，会停止向ESC电极提供吸附电源，使ESC的电极接地，当上升单元提升了工件之后，抗静电的清洗等离子体会充满工件和ESC之间的空间，加速去除工件和ESC之间存在的电荷，干燥清洗ESC的表面和反应室的内部，去除灰尘颗粒，其中这些灰尘颗粒是在上升单元使ESC去除对工件的吸附过程中产生的。